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1700℃真空高溫管式爐GSL-1700X-S60采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件,Z高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。
1700℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅱ每個溫區(qū)長300mm,由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進行控溫,采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1700℃,采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃,通過調(diào)節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內(nèi)溫度場形成一溫度梯度。本機可用于CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ采用三個數(shù)字溫度控制器進行獨立控溫,可設(shè)置30段升降溫程序,中心加熱區(qū)采用800℃級硅鉬棒加熱,另外兩個溫區(qū)采用硅碳棒進行加熱,調(diào)整三個溫區(qū)的溫度,可形成一個溫度梯度,進行功能材料的制備。同時,本機也適用于CVD法制作薄膜外延生長。
1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進行加熱,Z高溫度可以達到1700℃,專門針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的燒結(jié)。溫控系統(tǒng)采用PID控制器,可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為± 1℃。