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1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X加熱元件采用1700℃級硅鉬棒,廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下,新材料樣品的燒結(jié)或退火。
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S加熱元件采用1750℃級硅鉬棒,廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下,新材料樣品的燒結(jié)或退火。
1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ每個加熱區(qū)域長300mm,由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進行控溫,采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1600℃,采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃,通過調(diào)節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內(nèi)溫度場形成一溫度梯度。本機可用于CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn),針對電子陶瓷的預燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)等工藝。
1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件,Z高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S采用30段程控PID控溫儀,Z高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。