PCE-6V小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。設(shè)備體積小，操作簡單，應(yīng)用廣泛。1、采用氣體作為清洗介質(zhì)，避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。
2、可短時間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物。
3、清洗程度可達(dá)到分子級。
4、可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
5、清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強(qiáng)粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。
6、樣品臺可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。
7、廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。