1. 基片清洗設(shè)備：

① 前期簡單清洗：VGT-1620QTD超聲波清洗機（用于去除基片表面污漬 ）

② 深層清洗：

PCE-6等離子清洗機（達分子級的深層清洗，用于改善基片表面的親水性和濕潤性）、PCE-6V小型等離子清洗機（不僅可用于基片表面性質(zhì)的改善還可通氧氣進行光刻膠清洗）、紫外線臭氧清洗：不需要任何溶劑的干式清洗技術(shù)，對基片沒有損傷（該法不適用于高分子基片）

2. 基片清洗效果檢測：

DSA-X光學接觸角測量儀、DSA-X Roll 全自動整體傾斜接觸角分析儀（通過對清洗前后基片表面對同一種液體的接觸角的數(shù)值的檢測，來判斷清洗效果是否達到要求）

3. 涂膜：VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機（適用于4英寸及以下的晶圓表面的涂膜）、VTC-200P真空旋轉(zhuǎn)涂膜機（適用于6英寸及以下的晶圓表面的涂膜）

4. 膠體薄膜固化：烤膠機：HT-150型精密烤膠機、VTC-100PA-Ⅰ或VTC-100PA-Ⅱ上蓋加熱型真空旋轉(zhuǎn)涂膜機，無需移動樣片直接進行烤膠。VTC-100PA-UV紫外加熱型旋轉(zhuǎn)涂膜機用于光敏型膠體薄膜的固化。

5. 薄膜厚度測定：SE-VE光普橢偏儀  膜厚測量范圍：0.5nm-20μmSR-C 反射膜厚儀   膜厚測量范圍：100nm-40μm